Fornitore di Wafer e Epitassi per Semiconduttori Composti | Power Wafertech Group

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Wafer GaN

GaN Template

Il template GaN di PWG si riferisce a strati epitassiali di GaN di alta qualità coltivati su substrati di zaffiro, silicio o SiC. Fornire una piattaforma economica e pronta per l'epidemiologia per la successiva ricrescita del GaN e la fabbricazione avanzata di dispositivi.

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Wafer GaN

Epitassia LED GaN

Le wafer epitassiali a LED GaN di PWG sono eterostrutture AlGaN/InGaN coltivate con MOCVD, progettate per LED ad alta efficienza UV, blu e verde. Dotati di strutture precise multi-pozzetto quantistico (MQW), questi wafer e epe offrono un'elevata efficienza quantistica interna (IQE), emissioni uniformi e una superiore affidabilità del dispositivo.

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Wafer Epitassiale al silicio

Wafer Epitassiale al silicio

Power Wafertech Group fornisce wafer epitaxiali di silicio (wafer Si epi) coltivati tramite epitassi CVD avanzata. Strati epitasiali di silicio controllati con precisione vengono depositati su substrati conduttivi per ottenere lo spessore, il profilo di dopaggio e la resistività richiesti per la fabbricazione di dispositivi semiconduttori.
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Wafer GaN

Epitassia GaN HEMT

Strutture HEMT AlGaN/GaN di precisione sviluppate per commutazione RF ad alta frequenza e alta potenza. Dotato di buffer a basso difetto e canali 2DEG ad alta densità per prestazioni superiori del dispositivo.

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Substrato di silicio

Substrato di silicio

Power Wafertech Group fornisce wafer in silicio monocristallino per la fabbricazione di dispositivi semiconduttori, MEMS, crescita epitassiale e applicazioni di ricerca. Possono essere forniti sia wafer di silicio di prima scelta che di prova di grado.
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Lamina di Anidride di Silicio

Lamina di Anidride di Silicio

Power Wafertech Group fornisce wafer di anidride di silicio (SiO₂ on Si) prodotti tramite ossidazione termica controllata dei substrati di silicio. Sono disponibili sia l'ossidazione termica secca che quella termica a umido per diversi spessori di ossido e requisiti di processo. I nostri wafer SiO₂ presentano uno spessore controllato dell'ossido, una buona uniformità a livello di wafer e superfici pronte per l'epi-/processo.
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TRE FAMIGLIE DI MATERIALI PRINCIPALI

Roadmap dei materiali ingegnerizzati per il tuo dispositivo

Esamina substrati e wafer di epi per famiglia di materiali. Configurazioni standard e specifiche personalizzate disponibili per R&S e produzione in serie.

APPLICAZIONI & INDUSTRIE

Applicazioni e industrie

CASE 01 / SISTEMI AD ALTA TENSIONE

Elettronica di potenza

Soluzioni di wafer a largo gap di banda progettate per architetture 800V+. Garantire una conversione di potenza ad alta efficienza, commutazioni rapide e un funzionamento affidabile ad alte temperature.

FOCUS SULL'APPLICAZIONE

Motorizzazioni EV · Ricarica veloce · Azionamenti a motore industriale

PRODOTTI CONSIGLIATI

4H-SiC GaN

PROCESSO DI IMPEGNO

Come procede una domanda personalizzata

Invia i requisiti specifici del programma e i nostri ingegneri li accompagneranno dalla valutazione a un preventivo confermato.

INGEGNERIA PERSONALIZZATA

Parametri oltre la lista standard

Diametro e spessore personalizzati
Orientamento e stacco
Doping e resistività
Film sottili e stack di strati
Profilo di superficie e bordi
Marcatura e imballaggio
01Requisiti per inviare
02Revisione ingegneristica
03Allineamento delle specifiche
04Preventivo e tempi di consegna
Parla con un ingegnere

INCHIESTA TECNICA

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Indirizzo

N. 1389, Lianmei Road, Zona Industriale Lianhua, Tong'an, Xiamen, Fujian 361100, Cina

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+86-592-5633652

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