Epitassia LED GaN | Power Wafertech Group

Wafer GaN

Epitassia LED GaN

Le wafer epitassiali a LED GaN di PWG sono eterostrutture pronte per la fabbricazione sviluppate da MOCVD, progettate per un'elevata efficienza quantistica interna (IQE), un'emissione uniforme e prestazioni robuste.
  • Opzioni di substrato zaffiro (piatto o a motivo), Si
  • Intervallo di lunghezze d'onda ultravioletto (265–405nm), blu (445–475nm) e verde (510–530nm)
  • Regione attiva InGaN/GaN MQW per emissioni visibili; Strutture basate su AlGaN per UV
  • Personalizzazione Spessori degli strati, concentrazioni di drogaggio ed epistruttura
Specifiche dettagliate

Specifiche pubblicate per diametro del wafer.

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ParametroUVC LED Wafer
Lunghezza d'onda di emissione275 miglia nautiche
Diametri disponibili2″ / 4″ / 6″ / 8″
Struttura del Livello ChiaveEpistruttura a base di AlGaN con strato di nucleazione di AlN
Prestazioni tipicheContatti per i dettagli
Tipo di substratoZaffiro piatto o con motivo (PSS)
Domande frequenti

Domande comuni su questo prodotto

Risposte rapide sulla selezione dei materiali, personalizzazione, test e ordinazione.

Per i LED visibili, la regione attiva utilizza tipicamente MQW InGaN/GaN. Per i LED UV, si usano strutture attive basate su AlGaN per ottenere lunghezze d'onda di emissione più corte.

Sì. PWG può personalizzare lo spessore dello strato, la concentrazione di doping, il design del MQW, la composizione, la lunghezza d'onda di emissione e la struttura complessiva dell'epidemiologia in base ai requisiti del dispositivo e del processo del cliente.

Sì. Strutture epitassiali personalizzate a LED GaN possono essere sviluppate per applicazioni di ricerca e sviluppo, prototipi e produzione, con specifiche adattate alle esigenze del dispositivo del cliente.

Inchiesta Tecnica

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