Ostili e materiali in silicio | Power Wafertech

CENTRO PRODOTTO

Trova il wafer giusto per il tuo programma.

Esplora i wafer semiconduttori composti standard per famiglia di materiali, specifiche e applicazione—oppure mettiti in contatto con il nostro team per parametri personalizzati e processi a valle.

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Costruire un percorso chiaro dalla famiglia di materiali a una specifica di wafer pronta per la produzione.

Substrato di silicio

Substrato di silicio

Power Wafertech Group fornisce wafer in silicio monocristallino per la fabbricazione di dispositivi semiconduttori, MEMS, crescita epitassiale e applicazioni di ricerca. Possono essere forniti sia wafer di silicio di prima scelta che di prova di grado.
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Wafer Epitassiale al silicio

Wafer Epitassiale al silicio

Power Wafertech Group fornisce wafer epitaxiali di silicio (wafer Si epi) coltivati tramite epitassi CVD avanzata. Strati epitasiali di silicio controllati con precisione vengono depositati su substrati conduttivi per ottenere lo spessore, il profilo di dopaggio e la resistività richiesti per la fabbricazione di dispositivi semiconduttori.
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Lamina di Anidride di Silicio

Lamina di Anidride di Silicio

Power Wafertech Group fornisce wafer di anidride di silicio (SiO₂ on Si) prodotti tramite ossidazione termica controllata dei substrati di silicio. Sono disponibili sia l'ossidazione termica secca che quella termica a umido per diversi spessori di ossido e requisiti di processo. I nostri wafer SiO₂ presentano uno spessore controllato dell'ossido, una buona uniformità a livello di wafer e superfici pronte per l'epi-/processo.
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TRE FAMIGLIE DI PRODOTTI PRINCIPALI

Un portfolio chiaro per programmi standard e specializzati.

Esaminare configurazioni comuni, usi tipici e percorsi disponibili per ulteriori specifiche.

APPLICAZIONI & INDUSTRIE

Applicazioni e industrie

CASE 01 / SISTEMI AD ALTA TENSIONE

Elettronica di potenza

Soluzioni di wafer a banda larga per conversione efficiente di potenza, commutazione rapida e funzionamento affidabile ad alte temperature.

FOCUS SULL'APPLICAZIONE

Trazione EV · Ricarica veloce · Energia industriale

PRODOTTI CONSIGLIATI

Substrato 4H-SiC Epitassia GaN SiC personalizzato

PROCESSO DI IMPEGNO

Come procede una domanda personalizzata

Invia i requisiti specifici del programma e i nostri ingegneri li accompagneranno dalla valutazione a un preventivo confermato.

INGEGNERIA PERSONALIZZATA

Parametri oltre la lista standard

Diametro e spessore personalizzati
Orientamento e stacco
Doping e resistività
Film sottili e stack di strati
Profilo di superficie e bordi
Marcatura e imballaggio
01Requisiti per inviare
02Revisione ingegneristica
03Allineamento delle specifiche
04Preventivo e tempi di consegna
Parla con un ingegnere

INCHIESTA TECNICA

Parla con gli ingegneri delle tue esigenze di wafer

Condividi il tuo materiale, le dimensioni, le specifiche, la fase di applicazione o del progetto. Il nostro team esaminerà le tue esigenze e risponderà entro un giorno lavorativo.

Risposta guidata dall'ingegneria

Le richieste vengono inoltrata al team tecnico o commerciale appropriato.

Indirizzo

N. 1389, Lianmei Road, Zona Industriale Lianhua, Tong'an, Xiamen, Fujian 361100, Cina

Telefono

+86-592-5633652

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