Template GaN | Power Wafertech Group

Wafer GaN

GaN Template

Il template GaN di PWG si riferisce a strati epitassiali di GaN di alta qualità coltivati su substrati di zaffiro, silicio o SiC. Fornire una piattaforma economica e pronta per l'epidemiologia per la successiva ricrescita del GaN e la fabbricazione avanzata di dispositivi.
  • Opzioni di substrato — zaffiro, silicio o SiC
  • Conduzione dello strato epilayer GaN — Tipo N (dopaggio Si), tipo P (dopaggio Mg) e semi-isolante (dopaggio Fe)
  • Spessore dell'epi — 1μm a 100μm (personalizzabile)
  • Qualità cristallina — densità di dislocazioni <1×10⁸cm⁻² (sullo zaffiro)
  • Opzioni di materiale esteso — Template AlGaN, template InGaN
  • Finitura superficiale — Epi-ready
  • Confezione — Cassetta a wafer singolo, sigillata sottovuoto
Specifiche dettagliate

Specifiche per tipo di wafer.

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Voce Modello GaN-on-Sapphire (GaN-on-Al₂O₃)
Substrato Zaffiro
Diametri 2 pollici (50,8 mm), 3 pollici (76,2 mm), 4 pollici (100 mm) e 6 pollici (150 mm)
Finitura in superficie Epi-ready, lucidato a singolo o doppio lato
Rugosità superficiale Ra
GaN Epilayer GaN Epilayer
Tipi di conduzione Tipo N (dopaggio Si), tipo P (dopaggio Mg) e semi-isolante (dopaggio Fe)
Intervallo di spessore 4μm a 100μm, personalizzabile
Densità di dislocazioni tipicamente
Risivitività • Tipo N: 1×10⁶Ω·cm
XRD FWHM di (002)
XRD FWHM di (102)

Avviso di controllo delle esportazioni

L'esportazione di questo prodotto è regolamentata dal Ministero del Commercio della RPC (MOFCOM). Una licenza di esportazione deve essere ottenuta prima della spedizione.

Applicazioni

Dove questo wafer fornisce valore

01

Elettronica di potenza

Una piattaforma ottimale per dispositivi di commutazione ad alta tensione e alta potenza, inclusi HEMT di potenza GaN-on-Si per caricabatterie veloci, gruppi motopropulsori per veicoli elettrici e alimentatori per data center.

02

RF e Comunicazioni

I template GaN sono ideali per moduli front-end RF ad alta frequenza, infrastrutture 5G/6G e amplificatori di potenza mmWave che richiedono alta mobilità elettronica e stabilità termica.

03

Optoelettronica e Micro-LED

Applicato nella crescita epitassiale di emettitori LED blu e verdi, diodi laser (LD) e display Micro-LED di nuova generazione. Abilitazione di strutture avanzate InGaN/GaN MQW per emissioni luminose ad alta efficienza.

04

UV e Sensoring

Per la fabbricazione di fotorivelatori UVC/UVA, sensori UV ciechi al sole e dispositivi chimici/bio-sensoriali che richiedono alta qualità cristallina e bassa densità di difetti.

Domande frequenti

Domande comuni su questo prodotto

Risposte rapide sulla selezione dei materiali, personalizzazione, test e ordinazione.

Sì. I modelli di GaN sono principalmente progettati come piattaforme pronte per l'epi-preparazione per l'epitassia successiva di GaN o III-nitruro, aiutando a semplificare il processo di crescita e a fornire una superficie cristallina controllata.

Sì. Oltre ai template GaN, PWG può fornire template AlGaN e InGaN per applicazioni che richiedono l'ingegneria del gap di banda, in particolare dispositivi avanzati UV, a luce visibile e altri dispositivi optoelettronici.

Un modello di GaN consiste in uno strato epitassiale sottile di GaN coltivato su un substrato estraneo (ad esempio, zaffiro o Si), offrendo una piattaforma economica per la ricrescita del dispositivo. Un substrato GaN indipendente è un wafer di GaN a grandi dimensioni con il substrato estraneo rimosso, che offre la massima qualità cristallina e prestazioni termiche per dispositivi di fascia alta.

Sì. PWG è favorevole alla ricerca e sviluppo con MOQ flessibile per la prototipazione. Supportiamo la personalizzazione rapida dello spessore dell'epi, del doping e dei tipi di substrato per adattarla alle esigenze del tuo dispositivo.

Inchiesta Tecnica

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