Template GaN | Power Wafertech Group

Wafer GaN

GaN Template

I template di GaN di PWG consistono in uno strato epitassiale di GaN di alta qualità cristallina coltivato su substrati estranei, offrendo un equilibrio ottimale tra prestazioni, gestione termica ed efficienza dei costi.
  • Opzioni di substrato zaffiro, silicio o SiC
  • Conduzione dello strato epilayer GaN Tipo N (dopaggio Si), tipo P (dopaggio Mg) e semi-isolante (dopaggio Fe)
  • Spessore dell'epi 1μm a 100μm (personalizzabile)
  • Qualità cristallina densità di dislocazioni <1×10⁸cm⁻² (sullo zaffiro)
  • Opzioni di materiale esteso Template AlGaN, template InGaN
Specifiche dettagliate

Specifiche pubblicate per diametro del wafer.

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VoceModello GaN-on-Sapphire (GaN-on-Al₂O₃)
SubstratoZaffiro
Diametri2 pollici (50,8 mm), 3 pollici (76,2 mm), 4 pollici (100 mm) e 6 pollici (150 mm)
Finitura in superficieEpi-ready, lucidato a singolo o doppio lato
Rugosità superficialeRa
GaN EpilayerGaN Epilayer
Tipi di conduzioneTipo N (dopaggio Si), tipo P (dopaggio Mg) e semi-isolante (dopaggio Fe)
Intervallo di spessore4μm a 100μm, personalizzabile
Densità di dislocazionitipicamente
Risivitività• Tipo N: 1×10⁶Ω·cm
XRD FWHM di (002)
XRD FWHM di (102)
Domande frequenti

Domande comuni su questo prodotto

Risposte rapide sulla selezione dei materiali, personalizzazione, test e ordinazione.

Sì. I modelli di GaN sono principalmente progettati come piattaforme pronte per l'epi-preparazione per l'epitassia successiva di GaN o III-nitruro, aiutando a semplificare il processo di crescita e a fornire una superficie cristallina controllata.

Sì. Oltre ai template GaN, PWG può fornire template AlGaN e InGaN per applicazioni che richiedono l'ingegneria del gap di banda, in particolare dispositivi avanzati UV, a luce visibile e altri dispositivi optoelettronici.

Inchiesta Tecnica

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