Substrato GaN indipendente | Power Wafertech Group

Wafer GaN

Substrato GaN indipendente

I substrati di GaN autoportanti (FS) sono wafer di GaN di massa nativi che eliminano substrati estranei (zaffiro/silicio). Caratterizzato da densità di dislocazioni ultra-bassa e alta qualità cristallina, fornendo la piattaforma definitiva per diodi laser ad alte prestazioni, Micro-LED e dispositivi RF.
  • Dimensioni — 2 pollici, 4 pollici, 10 x 10 mm²
  • Orientamento del cristallo — Piano A/C/M, semipolare, non polare
  • Densità di dislocazioni — tipicamente < 5×10⁶ cm⁻²
  • Tipo di conduzione — Tipo N (Si-dopato) · Semi-isolante (Fe- o C-dopato)
  • Finitura superficiale — Epi-ready
  • Confezione — Cassetta a wafer singolo, sigillata sottovuoto
Specifiche dettagliate

Specifiche per tipo di wafer.

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Parametro Substrato GaN indipendente da 4"/100mm
Orientamento del cristallo C-piano (0001) / A-piano (11-20) / M-piano (10-10) / Semi-polare / Non polare (custom)
Spessore 300 – 500 μm (standard); personalizzabile
Densità di dislocazioni Tipicamente
Tipo di conduzione / Doping Tipo n (Si-dopato) · Semi-isolante (Fe- o C-dopato)
Finitura superficiale Epi-ready lucidato, Ra ≤ 0,3nm
FWHM ≤ 100arc.sec
TTV ≤ 15μm
Arco ≤ 20μm
Area utilizzabile ≥ 90%

Avviso di controllo delle esportazioni

L'esportazione di questo prodotto è regolamentata dal Ministero del Commercio della RPC (MOFCOM). Una licenza di esportazione deve essere ottenuta prima della spedizione.

Applicazioni

Dove questo wafer fornisce valore

01

Diodi laser blu, verde e UV (LD)

La bassa densità di dislocazioni (<5×10⁶ cm⁻²) consente laser e VCSEL ad alta efficienza, corrente a bassa soglia e lunga durata per applicazioni blu, verdi e UV.

02

Micro-LED e Display Avanzati

Piattaforma nativa GaN che offre emissioni uniformi e alta qualità cristallina per display Micro-LED AR/VR di nuova generazione e applicazioni ad altissima luminosità.

03

RF ad alta potenza / alta frequenza

L'eccellente conducibilità termica e le proprietà semi-isolanti lo rendono ideale per amplificatori di potenza RF ad alta linearità ed alta efficienza in infrastrutture 5G/6G e sistemi a onde millimetriche.

04

Ricerca e sviluppo fondamentali e applicata

La piattaforma definitiva per esplorare la fisica dei dispositivi GaN innovativi, i dispositivi quantistici (punti/fili quantistici) e i concetti optoelettronici di nuova generazione.

Domande frequenti

Domande comuni su questo prodotto

Risposte rapide sulla selezione dei materiali, personalizzazione, test e ordinazione.

La densità tipica di dislocazioni è <5×10⁶ cm⁻². I valori specifici possono essere discussi in base al grado e all'applicazione del wafer richiesto.

Sì. Oltre al GaN convenzionale del piano c, possiamo fornire substrati a piano a, piano m, semipolari e non polari secondo i requisiti della struttura del dispositivo prevista.

Sì. PWG è favorevole alla ricerca e sviluppo. Forniamo sia misure standard (2 pollici, 4 pollici, 10x10mm²) sia dimensioni personalizzate.

I wafer sono sigillati sottovuoto in cassette single wafer all'interno di una camera bianca per garantire la consegna pronta per il Fab.

Inchiesta Tecnica

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Risposta guidata dall'ingegneria

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