Substrato GaN indipendente | Power Wafertech Group

Wafer GaN

Substrato GaN indipendente

I substrati di GaN indipendenti (FS) sono wafer di GaN in massa che eliminano il modello di crescita estraneo (ad esempio, zaffiro o silicio), fornendo una piattaforma nativa con densità di dislocazioni significativamente ridotta. Questo consente prestazioni migliorate, affidabilità e durata del dispositivo in applicazioni impegnative
  • Dimensioni 4 pollici, 2 pollici, 10*10mm2
  • Orientamento del cristallo Piano A/C/M, semipolare, non polare
  • Densità di dislocazioni <5x106cm⁻² tipico
  • Conduzione semi-isolante o conduttivo
Specifiche dettagliate

Specifiche pubblicate per diametro del wafer.

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ParametroSubstrato GaN indipendente da 4"/100mm
Orientamento del cristalloC-piano (0001) / A-piano (11-20) / M-piano (10-10) / Semi-polare / Non polare (custom)
Spessore300 – 500 μm (standard); personalizzabile
Densità di dislocazioniTipicamente
Tipo di conduzione / DopingTipo n (Si-dopato) · Semi-isolante (Fe- o C-dopato)
Finitura superficialeEpi-ready lucidato, Ra ≤ 0,3nm
FWHM≤ 100arc.sec
TTV≤ 15μm
Arco≤ 20μm
Area utilizzabile≥ 90%
Applicazioni

Dove questo wafer fornisce valore

01

Diodi laser blu, verde e UV (LD)

La bassa densità di difetti è fondamentale per raggiungere una lunga durata operativa, una bassa corrente di soglia e un'elevata affidabilità nei laser a emmissione di bordo e nei VCSEL.

02

Micro-LED e Display Avanzati

Essenziale per la produzione di array di micro-pixel ad alta efficienza e uniformi con minima variazione di lunghezza d'onda, guidando display di nuova generazione per applicazioni AR/VR e ultra-alta luminosità.

03

Dispositivi RF ad alta potenza / alta frequenza

La combinazione di eccellente conduttività termica e proprietà semi-isolanti rende questi substrati ideali per amplificatori di potenza RF ad alta linearità ed alta efficienza in infrastrutture 5G/6G e sistemi a onde millimetriche.

04

Ricerca e sviluppo fondamentali e applicata

La piattaforma definitiva per esplorare la fisica dei dispositivi GaN innovativi, le strutture quantistiche e i concetti optoelettronici di nuova generazione.

Domande frequenti

Domande comuni su questo prodotto

Risposte rapide sulla selezione dei materiali, personalizzazione, test e ordinazione.

La densità tipica di dislocazioni è <5 × 10⁶ cm⁻². I valori specifici possono essere discussi in base al grado e all'applicazione del wafer richiesto.

Sì. Oltre al GaN convenzionale del piano c, possiamo fornire substrati a piano a, piano m, semipolari e non polari secondo i requisiti della struttura del dispositivo prevista.

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